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1、只需要進行簡單的改造就可以提高現(xiàn)有設(shè)備的除氟效率。

2、通過簡單的工藝改造還可以實現(xiàn)氟、磷的同時去除。

3、方法簡單、工藝可靠、既能提高處理效率又可減少加藥量。

本系統(tǒng)有關(guān)參數(shù)：停留時間：晶種預(yù)制槽10-60分。反應(yīng)槽20-40分。加藥量：氟離子濃度+300mg/l鈣離子。

含氟廢水的處理存在出水水質(zhì)不穩(wěn)定、藥劑使用量過多、污泥發(fā)生量多且含水率高等問題。特別是隨著近年電子信息產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展以及國際環(huán)境標準ISO14000在世界范圍內(nèi)得到普遍的認可，從根本上解決含氟廢水的處理問題已成為以大規(guī)模集成回路和液晶顯示器等電子元件為代表的現(xiàn)代電子工業(yè)的一個重要的任務(wù)。

中國科學(xué)院生態(tài)環(huán)境研究中心研究人員在國外工作期間對常規(guī)的石灰法除氟技術(shù)進行了系統(tǒng)細致的研究，發(fā)現(xiàn)氟化鈣沉淀的生成不是單純地受溶度積的支配。實驗結(jié)果證明，氟化鈣沉淀的生成實際上是氟化鈣晶體的形成的過程，在反應(yīng)初期，特別是在原水濃度相對較低的情況下，能否形成有充分數(shù)量的晶種是決定含氟廢水處理成敗的關(guān)鍵。研究發(fā)現(xiàn)，可以按照結(jié)晶理論通過設(shè)置預(yù)制晶種的步驟，也就是所謂的原水分段注入法（已申請日本專利）達到大幅度提高含氟廢水處理效率的目的。由于該方法在不改變添加藥品的種類，不增加藥品使用量的情況下能顯著提高除氟效率，該方法在舊廠改造以及新廠建設(shè)中都不斷得到實際應(yīng)用（在日本有十幾例應(yīng)用）。該技術(shù)曾在每年一度的日本半導(dǎo)體展覽會上得到展出。